特許
J-GLOBAL ID：200903056122295231
統合された段階的接触分解方法と段階的水素処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河備 健二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592376
公開番号（公開出願番号）：特表2002-534559
出願日： 1999年12月07日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：
【要約】接触分解方法は、二つ以上の接触分解工程を含み、そして接触分解工程を水素処理と統合して、オレフィン製造、留出油品質および分解生成物のオクタンレベルが最大にされる。本方法においては、炭化水素原料は水素処理装置(23)で水素処理され、この水素処理炭化水素は第1の接触分解域(10)に送られて、第1の分解生成物が形成される。第1の分解生成物は、分離器(17)に送られ、そこでガス油含有塔底油留分を含む炭化水素留分が分離される。次いで、この塔底油留分は、第2の水素処理装置(19)に送られて、第2の水素処理炭化水素が形成される。次いで、この第2の水素処理炭化水素は、第2の分離器(20)に送られて、水素処理塔底油留分および未消費水素留分が分離される。未消費水素留分は、原料と組合わされ、そして水素処理塔底油留分は第2の接触分解装置(11)に送られて、第2の分解生成物が形成される。
請求項（抜粋）：
(a)少なくとも約400°Fの初留点を有する炭化水素原料を水素処理条件下で水素処理触媒と接触させて、第1の水素処理された炭化水素を生成させる工程と、(b)前記第1の水素処理された炭化水素の少なくとも一部を、第1の接触分解装置に導入すると共に、温度が900°F〜1150°Fであると共に触媒接触時間が5秒未満である接触分解条件下で前記第1の水素処理された炭化水素の一部を分解触媒と接触させて、第1の分解された炭化水素生成物を生成させる工程と、(c)前記第1の分解された炭化水素生成物を第1の分離器に導入すると共に、少なくとも第1のナフサ留分、第1のライトエンド留分、および少なくとも300°Fの初留点を有するガス油含有塔底油留分を前記第1の分解された炭化水素生成物から分離する工程と、(d)少なくとも前記ガス油含有塔底油留分を水素処理装置に導入すると共に、ガス油含有塔底油留分を水素処理条件下で水素処理して、第2の水素処理された炭化水素を生成させる工程と、(e)前記第2の水素処理された炭化水素を、第2の分離器に導入し、未消費水素を含有する少なくとも留分と水素処理されたガス油含有塔底油留分とを分離すると共に、前記未消費水素を含有する少なくとも留分を工程(a)の前記炭化水素原料と混合する工程と、(f)少なくとも水素処理された前記ガス油含有塔底油留分を、第2の接触分解装置に導入すると共に、水素処理された前記ガス油含有塔底油留分を、温度が950°F〜1250°Fである接触分解条件下で分解触媒と接触させて、第2の分解された炭化水素生成物を生成させる工程と、(g)少なくとも前記ガス油含有塔底油留分の継続した分離と水素処理のために、前記第1の分解された炭化水素生成物と第2の分解された炭化水素生成物とを混合する工程との連続工程を含む高品質中間留出油を製造するための接触分解方法。
Fターム (3件)：
4H029DA03
, 4H029DA09
, 4H029DA10
