特許
J-GLOBAL ID：200903056133013637
可視応答性ケイ素系高分子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-265913
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045915
出願日： 1996年10月07日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【課題】 光伝導性材料(フォトコンダクタ)、導電性材料、非線形光学材料などとして極めて有用である、主鎖にケイ素ユニットと、両端にエチニレン基のついたオリゴチオフェンユニットをもつ新規なケイ素系高分子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 繰り返し単位として主鎖にケイ素原子とエチニレン基、オリゴチエニレン基を有するケイ素系高分子、ならびにジエチニルシラン類と両端ジハロゲン化オリゴチオフェンを触媒存在下で反応させることを特徴とする該ケイ素系高分子の製造方法。
請求項（抜粋）：
主鎖にケイ素原子と両端にエチニレン基が結合したオリゴチオフェンユニットからなる繰り返し単位を有するケイ素系高分子。
IPC (2件)：
C08G 81/00 NUU
, C08G 77/00 NTZ
C08G 81/00 NUU
, C08G 77/00 NTZ
