特許

J-GLOBAL ID：200903056143547125

レジスト材料

発明者： 畠山 潤 ,  西 恒寛 ,  永田 岳志 ,  名倉 茂広
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-195065
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084639
出願日： 1998年06月25日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)又は(2)(式中、R1、R2、R3、R7、R8はC1〜C20のアルキレン基、R4、R5、R6、R9、R10はH、C1〜C20のアルキル基又はアミノ基を示し、R4とR5、R5とR6、R4とR6、R4とR5とR6、R9とR10は結合して環を形成してもよい。k、m、nは0〜20の整数を示す。但し、k、m、n=0のとき、R4、R5、R6、R9、R10はHを含まない。)で示される塩基性化合物の1種又は2種以上を含有することを特徴とするレジスト材料。【化1】【効果】 上記塩基性化合物を配合したレジスト材料によれば、レジストの膜減り防止効果が高く、孤立パターンのフォーカスマージン拡大効果が高いものである。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)及び(2)で示される塩基性化合物の1種又は2種以上を含有することを特徴とするレジスト材料。【化1】(式中、R1、R2、R3、R7、R8はそれぞれ独立して直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜20のアルキレン基、R4、R5、R6、R9、R10は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はアミノ基を示し、R4とR5、R5とR6、R4とR6、R4とR5とR6、R9とR10はそれぞれ結合して環を形成してもよい。k、m、nはそれぞれ0〜20の整数を示す。但し、k、m、n=0のとき、R4、R5、R6、R9、R10は水素原子を含まない。)

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-135254   出願人：住友化学工業株式会社
• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-158332   出願人：住友化学工業株式会社