特許

J-GLOBAL ID：200903056156613259

電子ビーム装置

発明者： 手操 弘典 ,  大窪 和生
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-191031
公開番号（公開出願番号）：特開平6-037161
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 SEM像に基づいて被検査物の検査を行う電子ビーム装置に関し、二値化のための閾値の決定を容易に且つ正確に行う。【構成】 被検査物14の設計データとしてマスク図データを格納する手段32と、データのパターンから配線のエッジ部分の画素数を計数する手段36と、被検査物14のSEM像を取得する手段22と、該取得されたSEM像を微分処理して配線のエッジ部分の画像を抽出する手段26と、前記配線のエッジ部分の画像及び前記計数されたエッジ部分の画素数に基づいて2値化のための閾値を決定し、前記配線のエッジ部分の画像を2値化する手段30と、2値化したエッジ部分の画像を配線方向に投影し、この投影データを前記マスク図データから作成された投影エッジデータにパターンマッチングさせ、前記被検査物14と前記電子ビーム12との相対位置を調整する手段44と、を含む。

請求項（抜粋）：

電子ビーム(12)を被検査物(14)に照射してSEM像を取得し、該SEM像に基づいて該被検査物(14)の検査を行う電子ビーム装置において、被検査物(14)の設計データとしてマスク図データを格納する手段(32)と、該格納されたマスク図データのパターンから配線のエッジ部分の画素数を計数する手段(36)と、被検査物(14)のSEM像を取得する手段(22)と、該取得されたSEM像を微分処理して配線のエッジ部分の画像を抽出する手段(26)と、前記配線のエッジ部分の画像及び前記計数されたエッジ部分の画素数に基づいて2値化のための閾値を決定し、該閾値に基づいて、前記配線のエッジ部分の画像を2値化する手段(30)と、前記2値化したエッジ部分の画像を配線方向に投影し、この投影データを前記マスク図データから作成された投影エッジデータにパターンマッチングさせ、前記被検査物(14)と前記電子ビーム(12)との相対位置を調整する手段(44)と、を含むことを特徴とする電子ビーム装置。

IPC (4件)：

H01L 21/66 ,  G01B 15/00 ,  G01R 19/00 ,  G01R 31/302