特許

J-GLOBAL ID：200903056161982750

磁気記録媒体及びその製造方法、製造装置

発明者： 千葉 一信 ,  佐藤 研一 ,  平塚 亮一 ,  小野寺 誠一 ,  内山 浩
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-061116
公開番号（公開出願番号）：特開平6-076281
出願日： 1993年02月25日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：

【要約】【目的】 生産性が高く、且つ信頼性の高い磁気記録媒体及びその製造方法、製造装置を提供する。【構成】 非磁性支持体上に単層または多層構造の磁性薄膜が形成されるとともに、該磁性層表面に保護膜が形成されてなる磁気記録媒体において、保護膜がキャン対向電極型プラズマCVD、プラズマ照射CVD、ECRプラズマCVD、トーチ型DCプラズマCVD、光CVD、誘導型プラズマCVDから選ばれた1または複数の手法により成膜されてなる。また、保護膜の成膜に際して、キャンに沿って複数のプラズマ装置を配設することにより、成膜スピードがさらに向上する。

請求項（抜粋）：

非磁性支持体上に単層または多層構造の磁性薄膜が形成されるとともに、該磁性層表面に保護膜が形成されてなる磁気記録媒体において保護膜がキャン対向電極型プラズマCVD、プラズマ照射CVD、ECRプラズマCVD、トーチ型DCプラズマCVD、光CVD、誘導結合型プラズマCVDから選ばれた1または複数の手法により成膜されてなる磁気記録媒体。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/72