特許

J-GLOBAL ID：200903056165132344

位相シフトマスクおよびその修正方法

発明者： 伊藤 進
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-195770
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062827
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、位相シフトマスクのシフターホール内の残渣欠陥の修正方法に関し、従来の工程を変更したり、追加することなしに、且つ修正作業による欠陥発生がないよう残渣欠陥を修正する。【構成】 位相シフトマスク用ガラス基板1のシフターホール2内に存在する残渣欠陥3を集光レンズ5で収束したレーザ光4を用いてエッチング除去することにより、また、前記レーザ光4にエキシマレーザを用いることにより、更に、前記レーザ光4によるガラス基板1のエッチングを不活性ガス雰囲気中、或いはアシストガス雰囲気中で行う。

請求項（抜粋）：

位相シフトマスク用ガラス基板のシフターホール内に存在する残渣欠陥を集光レンズで収束したレーザ光を用いてエッチング除去することを特徴とする位相シフトマスクの修正方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 W ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528