特許
J-GLOBAL ID：200903056171481598
レーザーテクスチャ加工に適したガラス材料及びそれを用いた磁気ディスク用ガラス基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅原 正倫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-211986
公開番号（公開出願番号）：特開平10-029832
出願日： 1996年07月22日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：
【要約】【課題】 従来よりも短波長のレーザーの適用が可能であり、表面のテクスチャ加工を高精度で行うことができるガラス材料を提供する。【解決手段】 上記ガラス材料は、ガラス中の吸光成分として、Fe、Mn、Ce、Ti、V、Cr、Co、Ni、Ag、Sn、Cu、Zn、Te、Er、Nd及びPrの金属成分のいずれか1種又は2種以上を合計で0.1〜10重量%の範囲で含有し、発振波長が250〜1100nmのレーザー光を照射した場合の吸光係数が100から2000とされる。これにより、発振波長が250〜1100nm程度の短波長のレーザー光によるテクスチャ加工が可能となる。そして、短波長のレーザーを使用することで、レーザー光の収束スポット径を小さくでき、ひいてはテクスチャ加工を高精度で行うことができる。
請求項（抜粋）：
発振波長が250〜1100nmのレーザー光を照射した場合の吸光係数が100〜2000であることを特徴とするレーザーテクスチャ加工に適したガラス材料。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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