特許
J-GLOBAL ID：200903056175992260
イオンビームスパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉岡 宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-012110
公開番号（公開出願番号）：特開2002-212724
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 不純物が混入することなく多層膜を形成すること。【解決手段】 シャッタ回転機構20の軸心から等距離の位置に、ターゲット22a〜22dをそれぞれ90度ピッチで配置し、シャッタ回転機構20に相対向させて基板34を配置するとともに基板34を基板ホルダ32で保持し、各イオン源12a〜12dから各ターゲット22a〜22dに順次イオンビーム26a〜26dを照射してスパッタ粒子40a〜40dを放出させる過程で、成膜用の材質に選ばれたターゲット22aに対するプリスパッタを行うときにターゲット38をターゲット22aと基板34とを結ぶ領域内に配置し、この状態でターゲット22aに対するプリスパッタを行い、プリスパッタ終了後、次にプリスパッタすべきターゲット22b側にシャッタ38を回転させるとともにターゲット22aに対するスパッタを行い、この処理を繰り返すことで基板34上に多層膜を形成する。
請求項（抜粋）：
真空の雰囲気中で成膜対象を処理するための空間を形成する真空容器と、前記真空容器内に分散して配置された複数のターゲットと、前記各ターゲットに対してイオンビームを照射する複数のイオン源と、前記各イオン源からのイオンビームの照射によって前記各ターゲットから放出されたスパッタ粒子の移動領域のうち各移動領域が重複する移動領域内に配置されて成膜対象を保持するホルダと、前記真空容器内を移動可能に配置され、且つプリスパッタ用ターゲットと前記ホルダに保持された成膜対象とを結ぶスパッタ粒子の移動路内に配置されたときには前記プリスパッタ用ターゲットから放出されたスパッタ粒子の成膜対象側への移動を遮断するシャッタと、前記プリスパッタ用ターゲットに対するプリスパッタが終了したときに前記シャッタを次にプリスパッタすべきターゲットと前記ホルダに保持された成膜対象とを結ぶスパッタ粒子の移動路内に移動させる移動機構とを備えてなるイオンビームスパッタ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/54 G
, C23C 14/46 B
4K029DA12
, 4K029DC16
, 4K029DC37
