光強度シミュレーション装置および光強度シミュレーション方法並びに光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-132379
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329932
出願日： 1998年05月14日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】膨大な量のマスクパターンのシミュレーションを効率よく行うとともに、特に専用設計されていない複数の演算処理プロセッサを活かして、最適化した並列処理が行える光強度シミュレーション装置、方法、および、光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体を提供すること。【解決手段】入力装置8からパターンデータおよび光学条件が入力されると、コントロールプロセッサ1は、上記入力された各種データに基づく光強度シミュレーションにおける所要計算量を求め、演算処理プロセッサ群7の各演算処理プロセッサ毎に光強度シミュレーションの計算量を振り分ける。演算処理プロセッサ群7では、各演算処理プロセッサが振り分けられた計算量を並列処理し、その結果をコントロールプロセッサ1が総和平均してモニタ9,プリンタ10等へ出力する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクパターンのパターンデータと、該フォトマスクパターンの露光工程における各種光学条件をパラメータ化した光学条件パラメータに基づいて、所定の計算アルゴリズムに従った演算処理を行い、前記フォトマスクパターンをウェハ上に露光転写した時の投影光学像の光強度分布を求める光強度シミュレーション装置において、前記パターンデータと、前記光学条件パラメータの数値範囲および可変ステップ量とを入力するデータ入力手段と、前記入力されたパターンデータおよび光学条件パラメータの数値範囲および可変ステップ量に基づいた光強度シミュレーションに要する計算量を求め、該計算量を複数に分配する計算量分配手段と、複数の演算処理プロセッサを有し、前記計算量分配手段によって分配された各計算量の演算処理を各演算処理プロセッサにおいて並列処理する並列処理手段と、前記並列処理手段によって行われた各演算処理結果を合成し、前記光強度シミュレーション結果を算出するシミュレーション結果算出手段とを有することを特徴とする光強度シミュレーション装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 G , G03F 1/08 A , G03F 7/20 521

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