ホスホニウム塩、その製造方法およびその用途

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-087551
公開番号（公開出願番号）：特開2002-371089
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】共役ジエン化合物と活性水素化合物とのテロメリゼーション反応を長期間連続して工業的規模で行う際にも、反応系中に無機塩などの沈澱物が全く析出しないテロメリゼーション触媒の構成成分であるホスホニウム塩を提供する。【解決手段】一般式(I)【化1】(式中、R1 およびR2 はそれぞれ水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表し、R3 は水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜5の炭化水素基を表し、R4 およびR5 はそれぞれ低級アルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表し、R6 は低級アルキル基で置換されていてもよいフェニレン基を表す。)で示されるホスホニウム塩。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1 およびR2 はそれぞれ水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表し、R3 は水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜5の炭化水素基を表し、R4 およびR5 はそれぞれ低級アルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表し、R6 は低級アルキル基で置換されていてもよいフェニレン基を表す。)で示されるホスホニウム塩。

IPC (4件)：

C07F 9/54 , C07C 29/36 , C07C 33/02 , C07B 61/00 300

FI (4件)：

C07F 9/54 , C07C 29/36 , C07C 33/02 , C07B 61/00 300

Fターム (22件)：

4H006AA02 , 4H006AC41 , 4H006AC92 , 4H006BA25 , 4H006BA32 , 4H006BA48 , 4H006BA81 , 4H006BA82 , 4H006BB22 , 4H006BB31 , 4H006BB61 , 4H006FE11 , 4H039CA60 , 4H039CA99 , 4H050AA01 , 4H050AA02 , 4H050AB40 , 4H050BB25 , 4H050BB31 , 4H050WA16 , 4H050WB11 , 4H050WB21

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭64-085988
特開昭64-085988
特開昭64-085988

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