特許

J-GLOBAL ID：200903056198364305

基板処理装置、基板搬送装置、基板処理方法、基板搬送方法、カラーフィルタ製造装置、カラーフィルタ製造方法、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法

発明者： 金田 拓也
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-072064
公開番号（公開出願番号）：特開2007-245004
出願日： 2006年03月16日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：

【課題】保守点検スペースを確保すると共に、装置全体の小型化及び軽量化を実現する基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、吸着テーブル16に支持固定する基板17を、移動機構7-1〜7-3に沿って直線移動させてプロセスユニット13に備えるインクジェットヘッド等からインクを吐出させて基板17に加工処理を行う。移動機構7-1〜7-3はそれぞれベース3-1、可動ベース5、ベース3-2に支持される。可動ベース5と移動機構7-2は、ベース9の移動機構8に沿ってY軸方向に移動可能に構成される。プロセスユニット13の保守点検時に、可動ベース5と移動機構7-2をY軸方向に所定距離だけ移動して、プロセスユニット13の下部に保守点検用の空間を確保する。可動ベース5を移動するため、装置全体の安定性を維持し装置の小型化及び軽量化を実現する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に対して所定の処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記基板を搬送して前記所定の処理を行う基板処理装置であって、 前記ベースは複数の分割ベースから構成され、 前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

B05C 13/02

FI (1件)：

B05C13/02

Fターム (5件)：

4F042AA06 ,  4F042DF09 ,  4F042DF24 ,  4F042DF25 ,  4F042DF26

引用特許：

出願人引用 (1件)

• パターン形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-172618   出願人：大日本印刷株式会社