特許
J-GLOBAL ID:200903056204784982
光磁気記録膜および光磁気記録媒体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-009490
公開番号(公開出願番号):特開平5-198023
出願日: 1992年01月22日
公開日(公表日): 1993年08月06日
要約:
【要約】【構成】3d遷移元素から選ばれる少なくとも1種の元素(I)と、ハフニウム(II)と、希土類元素から選ばれる少なくとも1種の元素(III)とからなる光磁気記録膜、および少なくともこの光磁気記録膜が基板上に積層されてなる光磁気記録媒体。【効果】本発明の光磁気記録膜および光磁気記録媒体は、長期信頼性および耐酸化性に優れ、長期間使用してもC/N比の低下が小さく、BERの変化も小さい。
請求項(抜粋):
3d遷移元素から選ばれる少なくとも1種の元素(I)と、ハフニウム(II)と、希土類元素から選ばれる少なくとも1種の元素(III)とからなることを特徴とする光磁気記録膜。
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