特許

J-GLOBAL ID：200903056210877429

有機EL装置の製造装置、有機EL装置の製造方法、有機EL装置、並びに電子機器

発明者： 小林 英和
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-334917
公開番号（公開出願番号）：特開2004-171862
出願日： 2002年11月19日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】有機EL装置の製造過程に起因する粉塵や、基体が製造装置内に持ち込む粉塵等によるピンホール等の欠陥発生を抑制すると共に、発光特性が優れ、長寿命化が達成された有機EL装置の製造装置及びの製造方法、有機EL装置、並びに電子機器を提供すること。【解決手段】処理室84、85内に基体2を配置し、基体2上に有機EL素子又は電極層を形成することにより有機EL装置を製造するための製造装置であって、処理室内の粉塵を捕集する集塵部50を備えることを特徴とする。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

処理室内に基体を配置し、前記基体上に有機EL素子又は電極層を形成することにより有機EL装置を製造するための製造装置であって、 前記処理室内の粉塵を捕集する集塵部を備えることを特徴とする有機EL装置の製造装置。

IPC (6件)：

H05B33/10 ,  B05C5/00 ,  B05D1/26 ,  B05D7/00 ,  C23C14/00 ,  H05B33/14

FI (6件)：

H05B33/10 ,  B05C5/00 101 ,  B05D1/26 Z ,  B05D7/00 H ,  C23C14/00 B ,  H05B33/14 A

Fターム (25件)：

3K007AB01 ,  3K007AB11 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AC06 ,  4D075AC07 ,  4D075CA48 ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA10 ,  4D075EA45 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38 ,  4F041BA56 ,  4K029BD00 ,  4K029DA01 ,  4K029DA09 ,  4K029KA09