特許
J-GLOBAL ID：200903056216233965
光分岐を使用する、マイクロ機械加工した干渉計のためのシステム、方法、および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-248525
公開番号（公開出願番号）：特開2008-102132
出願日： 2007年09月26日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：
【課題】半平面ビームスプリッタを使用して、マイクロ機械加工を施した干渉計が得られる。【解決手段】ビームスプリッタは、入射ビームIを受容するように光結合しており、入射ビームをそれぞれ異なる媒体内を伝播する2つの干渉ビームL1、L2に分岐するように動作する。こうした媒体の一方に埋め込まれた固定鏡M2は、一方の干渉ビームL2を反射し、この干渉ビームを、上記媒体を通って半平面ビームスプリッタへ戻す。その一方で、アクチュエータによって制御される可動鏡M1は、他方の干渉ビームL1を反射して、この干渉ビームを他方の媒体を通って上記半平面ビームスプリッタへ戻す。検出面D1またはD2は、反射された干渉ビームL3、L4間の干渉によって生成された干渉パターンを検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マイクロ機械加工を施した干渉計であって、
入射ビーム(I)を受容し、前記入射ビーム(I)をそれぞれ異なる媒体内を伝播する2つの干渉ビーム(L1、L2)に分岐するように光結合した半平面ビームスプリッタと、
第1反射干渉ビーム(L4)を生成するように、前記2つの干渉ビームのうちの第1のビーム(L2)を受容し、前記2つの干渉ビームのうちの第1のビーム(L2)を反射して前記半平面ビームスプリッタへ戻すように光結合した、第1媒体内に埋め込まれた固定鏡(M2)と、
第2反射干渉ビーム(L3)を生成するように、前記2つの干渉ビームのうちの第2のビーム(L1)を受容し、前記2つの干渉ビームのうちの第2のビーム(L1)を反射して前記半平面ビームスプリッタへ戻すように光結合した、第2媒体内の可動鏡(M1)と、
前記第1反射干渉ビーム(L4)と前記第2反射干渉ビーム(L3)の間の干渉によって生成された干渉パターンを検出するように光結合した検出平面(D1またはD2)と、
前記可動鏡(M1)の変位を生じさせるように前記可動鏡(M1)に結合したアクチュエータ(40)と、によって特徴付けられ、前記変位によって、前記2つの干渉ビーム(L1、L2)の間の光路長の差が前記変位の2倍の長さと等しくなる、干渉計。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (24件)：
2F064AA01
, 2F064AA15
, 2F064CC06
, 2F064CC10
, 2F064EE01
, 2F064EE02
, 2F064EE04
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG20
, 2F064GG21
, 2F064GG22
, 2F064GG24
, 2F064GG63
, 2F064HH03
, 2F064HH04
, 2F064HH06
, 2G020AA03
, 2G020AA04
, 2G020CA12
, 2G020CC21
, 2G020CC56
, 2G020CD03
, 2G020CD35
