特許
J-GLOBAL ID:200903056225711756

フォトソルダーレジスト露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青木 輝夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-352441
公開番号(公開出願番号):特開平6-180507
出願日: 1992年12月11日
公開日(公表日): 1994年06月28日
要約:
【要約】【目的】 プリント基板と焼付用マスクの位置合わせ精度が露光前に確認できるプリント基板のフォトソルダーレジスト露光方法を提供することである。【構成】 プリント基板1上の任意の位置に基準マーク5を設け、焼付用マスク2上のそのマークへ対応した位置にプリント基板1上の基準マーク形状よりも小さい基準マーク6を設けてこれらの基準マーク5,6を整合し、プリント基板1と焼付用マスク2の位置合わせ精度の確認を行うようにした。
請求項(抜粋):
プリント基板上の任意の位置に基準マークを設け、焼付用マスク上のその位置に対応した位置にプリント基板上の基準マーク形状よりも小さい基準マークを設けてこれらの基準マークを整合しプリント基板と焼付用マスクの位置合わせ精度を確認するようにしたことを特徴とするフォトソルダーレジスト露光方法。
IPC (2件):
G03F 9/00 ,  H05K 3/00

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