特許
J-GLOBAL ID：200903056226172158
X線マスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-341768
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188177
出願日： 1992年12月22日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 微細なパターンを有するにも拘らずX線の透過を確実に阻止する能力を有するX線吸収パターンを備えたX線マスクを提供する。【構成】 支持枠1の表面にはX線透過性の支持膜4が形成されている。支持膜4の裏面にはX線吸収性の第1のWパターン3が形成されている。支持膜4の表面における第1のWパターン3と対向する部位には第1のWパターンと同一パターンを有するX線吸収性の第2のWパターン5が形成されている。
請求項（抜粋）：
支持枠の表面に形成されたX線透過性の支持膜の裏面にX線吸収体からなる第1のX線吸収パターンが形成されていると共に、上記支持膜の表面における上記第1のX線吸収パターンと対向する部位にX線吸収体からなり上記第1のX線吸収パターンと同一パターンを有する第2のX線吸収パターンが形成されていることを特徴とするX線マスク。
IPC (2件)：
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