特許

J-GLOBAL ID：200903056226338390

減圧処理装置

発明者： 藤岡 秀彦 ,  海老沼 隆一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291209
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122505
出願日： 1993年10月27日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】 雰囲気気体の減圧雰囲気におかれるチャンバ内の清浄な雰囲気を必要とする空間部に、微小異物の混在しない局所的な清浄空間を形成する。【構成】 ヘリウムガス等の雰囲気気体の減圧雰囲気におかれるチャンバ1内には、ウエハ載置台5等が配設されており、ウエハ載置台5とロードロックチャンバ7の間にはウエハキャリヤ11からウエハ載置台5へウエハWを受渡すための搬送ロボット6が配設されている。チャンバ1内にはファン19およびフィルタ23を設けたダクト20が配設され、下方に設けられた吸込口21より吸引した雰囲気気体を上方に設けられた吹出口22から吹出させて清浄化された雰囲気気体の気流を発生させて搬送ロボット6の搬送経路等に局所的に清浄な空間を形成する。また、ダクト20には再熱器32および蒸発器31が設けられており、雰囲気気体の温度調節ができる。

請求項（抜粋）：

減圧自在なチャンバと、前記チャンバを減圧するための真空発生源と、前記チャンバに雰囲気気体を供給するための雰囲気気体の給気手段を備えた減圧処理装置であって、少なくとも1個ずつの吸込口と吹出口を有する前記雰囲気気体の循環系を前記チャンバ内に配設するとともに、前記循環系に、前記吸込口より前記雰囲気気体を吸引して前記吹出口より吹出させるための気流発生手段および前記雰囲気気体を清浄化するための清浄化手段を設けたことを特徴とする減圧処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/302 N ,  H01L 21/31 B