特許
J-GLOBAL ID:200903056230387185

光学走査装置及び光軸調整方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-321000
公開番号(公開出願番号):特開2001-142014
出願日: 1999年11月11日
公開日(公表日): 2001年05月25日
要約:
【要約】【課題】 装置を構成する光学部品の取付位置に誤差があっても、2本のビームの中心とアパーチャーの中心とを一致させ、かつアパーチャーから出射された2本のビームをそれぞれ精度よく感光体上の目標位置へ入射させる。【解決手段】 ビーム合成素子12の取付位置の誤差に起因してレーザビームL2には、主としてZ-X平面に直交する主調整方向へのずれが生じる。従って、アパーチャー10から出射されるレーザビームL1,L2の進行方向を一致させ感光体上で所定の位置関係とするためには、ビーム発生部22の半導体レーザ24及びコリメータレンズ26の一方についてはビーム発生手段22の光軸に対する光軸直交面に沿った方向へ位置調整可能とし、他方につては主調整方向へのみ位置調整可能とすれば、光量低下を抑制すると共にビーム合成素子12の取付位置の誤差に起因するレーザビームL2の位置及び傾きのずれを十分小さくできる。
請求項(抜粋):
発散光を出射する半導体レーザ及び該半導体レーザから出射された発散光を略平行光である第1ビームとするコリメータレンズを具備した第1のビーム発生手段と、発散光を出射する半導体レーザ及び該半導体レーザから出射された発散光を略平行光である第2ビームとするコリメータレンズを具備した第2のビーム発生手段と、前記第1及び第2のビーム発生手段から出射された第1及び第2ビームが互いに近接した光路上を進行するように第1及び第2ビームの少なくとも一方を偏向するビーム合成素子と、前記ビーム合成素子から出射された第1及び第2のビームにより感光体が走査されるように該第1及び第2ビームを偏向する光偏向器と、前記ビーム合成素子と前記光偏向器との間に設けられ前記ビーム合成素子から出射された第1及び第2ビームの断面形状を整形するアパーチャーとを有し、前記第1及び第2のビーム発生手段の少なくとも一方における半導体レーザ及びコリメータレンズをそれぞれその光軸と直交する光軸直交面に沿って位置調整可能としたことを特徴とする光学走査装置。
Fターム (7件):
2H045AA01 ,  2H045BA02 ,  2H045BA22 ,  2H045BA33 ,  2H045CB24 ,  2H045DA02 ,  2H045DA04

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