特許
J-GLOBAL ID：200903056248216051

ガスインジェクション成形方法

発明者：
佐藤 久芳

佐藤 久芳 について


出願人/特許権者：
株式会社足立ライト工業所

株式会社足立ライト工業所 について


代理人 (1件)： 伊藤 浩二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-325510
公開番号（公開出願番号）：特開2001-138354
出願日： 1999年11月16日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：
【要約】【課題】 成形品のノズル挿入跡の周囲にできるヒケを防止するとともに、ガス漏れを防止し所期のガスインジェクション成形を行い得るようにする。【解決手段】 ガス注入ノズル5が挿入される金型の成形窩1の内面にノズル挿入口6を囲う形態に凸条10を形成し、該凸条によって成形品のノズル挿入跡21の周縁部に凹溝22が形成されるようにした。
請求項（抜粋）：
ガス注入ノズルが挿入される金型の成形窩の内面にノズル挿入口を囲う形態に凸条を形成し、該凸条によって成形品のノズル挿入跡の周縁部に凹溝が形成されるようにしたことを特徴とするガスインジェクション成形方法。
IPC (2件)：
B29C 45/00 ,  B29C 45/26
FI (2件)：
B29C 45/00 ,  B29C 45/26
Fターム (12件)：
4F202AM34 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CK11 ,  4F202CK41 ,  4F202CK90 ,  4F206AM34 ,  4F206JA05 ,  4F206JA07 ,  4F206JF06 ,  4F206JN27 ,  4F206JQ81
引用特許：
審査官引用 (4件)
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