特許
J-GLOBAL ID：200903056249103366
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-333408
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180127
出願日： 1995年12月21日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：
【要約】【課題】 磁気コアをパターニングするためのコア用マスクを高い寸法精度で形成し、これによって所定のトラック幅を有しトラックプロファイルの良好な磁気コアを形成する。【解決手段】 コア用マスク6となるフォトレジストを塗布する前に、反射防止膜4を形成しておき、この反射防止膜4上にフォトレジストを塗布し、露光,現像することでコア用マスク6を形成する。
請求項（抜粋）：
磁性膜上に、フォトレジストを塗布した後、このフォトレジストを露光することによって所定のコアパターンのコア用マスクを形成するに際して、フォトレジストを塗布する前に、上記磁性膜上に反射防止膜を形成しておき、この反射防止膜上にフォトレジストを塗布することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B 5/31 C
, G11B 5/31 K
, G11B 5/39
