特許
J-GLOBAL ID：200903056254101070
マスクの修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235618
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083038
出願日： 1992年09月03日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【構成】集束イオンビーム加工(FIB)または集束イオンビームアシストエッチング(FIBAE)により短い工程で、かつごみの出る可能性があるレジスト露光やエッチングなどの工程を用いないで修正を行う。【効果】FIBにより修正加工を行うことにより、修正工数が低減すると共に、フォトリソ工程がないのでごみのでる心配もなくなる。
請求項（抜粋）：
位相シフトマスクの欠陥のSIM像と設計データを重ねあわせることによって、集束エネルギ粒子ビームの加工範囲を決めて修正することを特徴とするマスクの修正方法。
IPC (2件)：
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