特許

J-GLOBAL ID：200903056270588370

表面高純度セラミックス及びその製造方法

発明者： 島井 駿蔵 ,  五十嵐 昇 ,  森田 敬司 ,  原田 晴司 ,  永坂 幸行 ,  安藤 和
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 赤野 牧子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-337809
公開番号（公開出願番号）：特開平6-166563
出願日： 1992年11月26日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 半導体製造装置用部材として適用可能な、汚染源を構成しない無機酸化物セラミックスの提供。【構成】 無機酸化物セラミックスであって、外表面域における不純物含有濃度が、内部域の含有濃度より低減していることを特徴とする表面高純度セラミックス。

請求項（抜粋）：

無機酸化物セラミックスであって、外表面域における不純物含有濃度が、内部域の含有濃度より低減していることを特徴とする表面高純度セラミックス。

IPC (2件)：

C04B 35/10 ,  C04B 35/64

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-091462