特許

J-GLOBAL ID：200903056275050661

高い鏡像異性的純度の二官能性化合物の製造法

発明者： ラディソン,サビエ
出願人/特許権者： ローヌ-プラン シミ
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-501411
公開番号（公開出願番号）：特表平10-507996
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】無水溶媒中においてα-ヒドロキシカルボン酸エステル(化合物Id)から高い鏡像異性的純度を有する二官能性化合物(化合物If)、例えばジオール、を製造する方法であって、a)有機溶媒中において化合物(Id)を化合物(If)に還元する工程;b)少なくとも1個、好ましくは2個のXH又はYH基により置換され、且つ化合物(If)よりも標準大気圧下において高い沸点を有する共反応体の少なくとも1種を前記反応媒体中に加えることにより工程a)からの中間体中の化合物(If)を置換する工程;並びに、前記化合物(If)を回収するために反応媒体を直接蒸留する工程を含む方法。前記共反応体は、ピロカテコール、水素化物、NaBH4である。キラル合成の中間体を製造するために該方法を使用することができる。

請求項（抜粋）：

高い鏡像異性的純度の下式で表される化合物の製造方法:上式中であり、R1及びR2は同一であるか又は異なるものであって、水素又は脂肪族基及び/又は脂環式基及び/又は芳香族基及び/又は複素環式炭化水素基、好ましくは水素又はアルキルである; X及びYは同一であるか又は異なるものであって、酸素又は硫黄である;及び Lはσ共有単結合又はC1若しくはC2アルキル基であり、上式(If)の化合物は、Zが下式で表される式(Id)の式(If)に対応する純粋なキラル化合物から形成される:上式中R2及びYは上記定義と同一であるが、R2は更にNH2、アルコキシ若しくはアルキル化S基、又は下式で表される基であることが可能である:上式中n=1〜100であり、前記方法は、無水物混合物中において少なくとも1種の水素化物の還元剤で促進される化合物(Id)の還元を伴うような型の方法であって、前記方法は以下の工程を特徴とする: a)化合物(Id)の化合物(If)への還元が有機溶媒中で行われる工程; b)少なくとも1種の共反応体を反応混合物に加える工程であって、前記共反応体が: 少なくとも1個、好ましくは2個のXH又はYH基で置換されている; 上記工程a)から生成した中間生成物である化合物(If)を置換することができる;並びに 標準大気圧下において化合物(If)よりも高い沸点を有する工程; c)化合物(If)を回収するために反応混合物を直接蒸留する工程。

IPC (9件)：

C07C 31/20 ,  C07B 53/00 ,  C07C 29/147 ,  C07C 29/80 ,  C07C319/02 ,  C07C319/28 ,  C07C321/02 ,  C07C323/10 ,  C07M 7:00

FI (8件)：

C07C 31/20 Z ,  C07B 53/00 C ,  C07C 29/147 ,  C07C 29/80 ,  C07C319/02 ,  C07C319/28 ,  C07C321/02 ,  C07C323/10