ウエ-ハ端面エッチング方法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上清子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-279487
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206102
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】機械加工により面取りされたウエ-ハの端面のみをエッチングする。【構成】ウエ-ハ(1)をチャック(2)で吸着保持して低速で回転する。このウエ-ハの端面にエッチングロ-ラ(7)を接触させる。このエッチングロ-ラには、供給ロ-ラ(8)を介してエッチング液が供給されているので、上記ウエ-ハの端面には微量のエッチング液が付着し、エッチングされる。ウエ-ハが回転する際、ウエ-ハの端面には純水洗浄ロ-ラ(22) も接触する。このロ-ラにより、端面エッチングと同時に純水洗浄を行うことができる。ウエ-ハの平面には周縁に向けて窒素ガスを吹き出してあり、エッチング液のガスがウエ-ハの平面に及ばないようにしてある。

請求項（抜粋）：

ウエ-ハと該ウエ-ハの端面に接触するエッチングロ-ラを接触状態で回転し、該エッチングロ-ラの周面にエッチング液を供給し、該エッチングロ-ラを介して上記ウエ-ハの端面にエッチング液を付着し、エッチング処理を行うことを特徴とするウエ-ハ端面エッチング方法。

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