特許

J-GLOBAL ID：200903056296352013

基板処理槽

発明者： 須原 忠浩 ,  田中 眞人
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-019103
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213670
出願日： 1996年02月05日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構成で処理槽自体の侵食を確実に防止しつつ、処理槽外へのパーティクルの排出を良好に行う。【解決手段】 上部開口を有した断面矩形の箱型の処理槽12を形成し、これに処理液14を貯留して基板22を浸漬するとともに、上部開口から処理液をオーバーフローさせて処理液中のパーティクルを外部に排出するようにした。処理槽12は、その全体をPTFE(ポリテトラフロロエチレン)、PVDF(フッ化ビニリデン)等の耐侵食性を有する樹脂材から構成した。また、処理槽12の上部には、石英ガラスからなる円柱状のオーバーフロー面形成部材30を嵌め込むことにより処理液14のオーバーフロー面を形成した。

請求項（抜粋）：

処理液を貯留するとともに、その処理液に被処理基板を浸漬した状態で所定の処理液導出口から処理液をオーバーフローさせるように構成された処理槽において、前記処理槽は、上記処理液について耐侵食性を有する樹脂材料から構成されるとともに、上記処理液導出口の少なくとも処理液のオーバーフロー面が、前記樹脂材料よりも処理液の接触角が小さい低接触角部材から構成されてなることを特徴とする基板処理槽。