特許
J-GLOBAL ID：200903056300328343
多層膜フィルタの波長シフト温度係数の選定方法及び波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立花 良介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-351258
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198935
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 多層膜フィルタの波長シフト温度係数を基板の線膨張係数決定によって選定し,併せて波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタの提供。【構成】 イオンあるいはプラズマプロセス法によって稠密多層膜を異なった基板上にそれぞれ蒸着し,各多層膜フィルタの波長シフト温度係数を線膨張係数-波長シフト温度係数座標上にプロットする。各プロットを基にしてこの多層膜固有の温度係数シフト直線を求める。所定の波長シフト温度係数を有する多層膜フィルタの基板はこの温度係数シフト直線によって選定される。更に,線膨張係数が75〜150(/107) の基板を採用することで波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタをえる。【効果】 温度係数シフト直線により波長シフト温度係数を適宜選定できる。波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタは基板の線膨張係数がある範囲内のものを採用することで可能となる。
請求項（抜粋）：
多層膜自身の屈折率の温度係数や,熱膨張による膜厚変動以外に,基板の熱膨張による多層膜への体積歪みをも考慮し,波長シフト温度係数値が基板の線膨張係数値に対して単調減少する関係を踏まえて基板の線膨張係数を決定する,多層膜フィルタの波長シフト温度係数の選定方法。
引用特許：
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