特許
J-GLOBAL ID:200903056309390025

マイクロメカニカル・デバイス用の変形可能ビーム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-294568
公開番号(公開出願番号):特開平8-227041
出願日: 1995年11月13日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【課題】 マイクロメカニカル・デバイス用に質量を偏向可能に支持した変形可能ビームを提供する。【解決手段】 アドレス指定可能に集積化したモノリシックのマイクロミラー・デバイス(10)をスパッタリング技術により形成する。該マイクロミラー・デバイス(10)には、スパッタリング及び選択性エッチングにより形成された1又はそれ以上のビーム(18)により支持され、選択的に静電偏向可能な質量又はミラー(12)が含まれる。これらのビーム(18)は導電性の金属間アルミニウム化合物、又はこのような化合物の2又はそれ以上の混合物からなり、比較的に高い融点及びFCC結晶構造より小さな一次すべり系を示し、エッチング可能なものからなる。
請求項(抜粋):
変形可能ビームにより支持された偏向可能質量を含み、前記変形可能ビームが前記質量の偏向により変形可能となる型式のマイクロメカニカル・デバイス用に改良された変形可能ビームにおいて、前記ビームは、比較的に高い融点を有すると共に、FCC結晶構造より少ない一次すべり系を示す1又はそれ以上の導電性アルミニウム化合物からなる変形可能ビーム。

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