特許
J-GLOBAL ID:200903056310258432

プラズマ生成方法、プラズマ生成装置、プラズマ利用表面処理方法、並びにプラズマ利用ガス処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 矢野 正行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-028277
公開番号(公開出願番号):特開平11-224795
出願日: 1998年02月10日
公開日(公表日): 1999年08月17日
要約:
【要約】【目的】 チャージアップに起因するプラズマ生成時の弊害を除去すると共に、スムーズなプラズマの生成を極めて簡素な構成をもって低コストで行えるようにし、且つ長時間にわたるプラズマの安定化を図る。【構成】 高圧直流電源12及び小型スイッチング回路13を有するインバータ電源11を用いてパルス波形を呈する交番電圧を生じさせると共に、相互に対向状に配設された一対の電極6に対して上記交番電圧を印加することによりプラズマを生成させるように構成する。そして、光強度検出手段15または電流値検出手段22もしくはインピーダンス検出手段からの信号に基づいてプラズマの状態を一定の目標状態に維持するための制御手段19を備える。
請求項(抜粋):
高圧直流電源及び小型スイッチング回路を有するインバータ電源を用いてパルス波形を呈する交番電圧を生じさせると共に、相互に対向状に配設された一対の電極に対して上記交番電圧を印加することによりプラズマを生成させるようにしたことを特徴とするプラズマ生成方法。
IPC (4件):
H05H 1/36 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (4件):
H05H 1/36 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

前のページに戻る