特許
J-GLOBAL ID：200903056321363661
従来の高MWブロックコポリマーおよび制御分布ブロックコポリマーからなる高加工性配合物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
川口 義雄
, 小野 誠
, 渡邉 千尋
, 金山 賢教
, 大崎 勝真
, 坪倉 道明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-251623
公開番号（公開出願番号）：特開2007-084821
出願日： 2006年09月15日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】通常のブロックコポリマー、制御分布ブロックコポリマー、および場合によっては、オレフィンポリマー、スチレンポリマー、粘着性付与樹脂、増量油、ワックス、充填剤、エンジニアリング熱可塑性樹脂からなる群から選択される1つ以上の成分を含む、高度に改善された加工性を有する高分子配合物(例えば、配合された重合体組成物)を提供すること。【解決手段】制御分布ブロックコポリマーは、通常のブロックコポリマー配合物の加工性を向上するために流動改質剤として使用される。本発明の高分子配合物は、改善された加工性を示す一方、機械的特性においては低下を受けない。本発明の1つの利点は、従来技術の配合物と比較して、熱的に、より容易に加工することができる高性能ゴム配合物を作製できることである。したがって、より低いエネルギー消費、低減されたサイクル時間、低減された部品反り、および/または増大した成形複雑度を実現することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)少なくとも1個のA1ブロックおよび少なくとも1個のB1ブロックを含む少なくとも1種のブロックコポリマー[ここで、(1)各A1ブロックは、約3,000から約60,000の数平均分子量を有するモノアルケニルアレーンホモポリマーブロックであり;(2)各B1ブロックは、水素化の前に、約30,000から約300,000の数平均分子量を有する、ブタジエン、イソプレン、およびこの混合物から選択される共役ジエン炭化水素ブロックであり;および(3)A1ブロックは、該コポリマーの約5から約40重量%を構成する。];および
(b)少なくとも1個のA2ブロックおよび少なくとも1個のB2を含む少なくとも1種の制御分布ブロックコポリマー[ここで、(1)各A2ブロックは、モノアルケニルアレーンホモポリマーブロックであり、および各B2ブロックは、ブタジエンおよびイソプレンから選択される少なくとも1個の共役ジエン、および少なくとも1個のモノアルケニルアレーンの、制御分布コポリマーブロックであり;(2)各A2ブロックは、約3,000から約60,000の数平均分子量を有し、および各B2ブロックは、約30,000から約300,000の数平均分子量を有し、(3)各B2ブロックは、共役ジエン単位に富む、A2ブロックに隣接する末端領域、およびモノアルケニルアレーン単位に富む、A2ブロックに隣接していない1つ以上の領域を含み;(4)該ブロックコポリマー中のモノアルケニルアレーン総量は、約15重量パーセントから約80重量パーセントであり;および(5)各B2ブロック中のモノアルケニルアレーンの重量パーセントは、約10パーセントから約75パーセントである。]
を含み、(a)および(b)のポリマーは、選択的に水素化されているか、または水素化されておらず、および(a)と(b)の比は、1:1以上である、高分子配合物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (27件)：
4J002AF00Y
, 4J002BA00Y
, 4J002BB02Y
, 4J002BB03Y
, 4J002BB06Y
, 4J002BB08Y
, 4J002BB11Y
, 4J002BB12Y
, 4J002BB14Y
, 4J002BB17Y
, 4J002BC03Y
, 4J002BC04Y
, 4J002BE03Y
, 4J002BK00Y
, 4J002BN15Y
, 4J002BP01W
, 4J002BP01X
, 4J002CF00Y
, 4J002CG00Y
, 4J002CH02Y
, 4J002CK00Y
, 4J002CL00Y
, 4J002GB00
, 4J002GC00
, 4J002GM00
, 4J002GN00
, 4J002GQ00
