特許
J-GLOBAL ID:200903056330484439

プロセスラインにおける学習制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-041091
公開番号(公開出願番号):特開平6-259107
出願日: 1993年03月02日
公開日(公表日): 1994年09月16日
要約:
【要約】【目的】 本発明は,プロセスラインの制御用モデルの学習係数をモデル予測値と前回までの実績値との誤差に基づいて修正し,次回のプロセスラインを制御する学習制御方法において,学習係数を修正する機会が少ない材料層別に対しても,適宜その機会を与えて好適なプロセス制御を実現し得るようにすることを目的とする。【構成】 例えば圧延ラインでの実際の処理に基づいて学習係数が修正された層別(狙い厚層別3,板厚層別3)におけるモデル予測値と実測値との誤差の傾向が例えば近似すると推定される近くの他の層別についてもその学習係数が同時に修正される。
請求項(抜粋):
プロセスラインの制御用モデルの学習係数をモデル予測値と前回までの実績値との誤差に基づいて修正し,次回のプロセスラインを制御する学習制御方法において,上記プロセスラインでの処理に係る材料層別に対応する学習係数を修正するに際し,モデル予測値と実績値との誤差が所定の傾向を有する他の層別に係る学習係数についても修正を行うことを特徴とするプロセスラインにおける学習制御方法。
IPC (2件):
G05B 13/02 ,  G05B 13/04
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平3-009622
  • 特開平4-287740
  • 特開平4-331543

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