感光性樹脂組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-257936
公開番号（公開出願番号）：特開2004-094118
出願日： 2002年09月03日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)特定のフェノール性ヒドロキシ基を含有する繰り返し単位と非フェノール性の繰り返し単位とを有するポリイミド樹脂と、(B)キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)

IPC (4件)：

G03F7/037 , C08G73/10 , G03F7/022 , H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/037 501 , C08G73/10 , G03F7/022 , H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB25 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 4J043PA04 , 4J043PA09 , 4J043PC06 , 4J043QB31 , 4J043RA33 , 4J043RA34 , 4J043RA35 , 4J043SA06 , 4J043SB02 , 4J043TA14 , 4J043TB01 , 4J043UA11 , 4J043UA14 , 4J043UA15 , 4J043UA16 , 4J043UA17 , 4J043UA18 , 4J043WA05 , 4J043WA11 , 4J043ZA51 , 4J043ZB22

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-273029
特開平3-273029
特開平3-281535

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