結晶性酸化チタン膜の形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-119197
公開番号（公開出願番号）：特開平11-310898
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】光触媒機能膜や色素増感型太陽電池の半導体膜として好適な、1μm以上の膜厚を有する微結晶で構成された結晶性の良い結晶性酸化チタン膜を得る。【解決手段】導電性基体をチタンアルコキシドが部分的に加水分解されてなるチタンアルコキシド重縮合体の溶液中に浸漬して一方の電極とし、この溶液中に浸漬した他方の電極との間に5〜50ボルトの電圧を印加し、電気泳動によって上記導電性基体上にチタンアルコキシド重縮合体を堆積させて酸化チタン前駆体膜を形成し、その後400°C以上の温度で焼成することにより、膜厚が1μm以上の結晶性酸化チタン膜を形成する。上記焼成の前段階で相対湿度60%以上の環境に保持するのが好ましい。

請求項（抜粋）：

導電性基体をチタンアルコキシドが部分的に加水分解されてなるチタンアルコキシド重縮合体の溶液中に浸漬して一方の電極とし、この溶液中に浸漬した他方の電極との間に5〜50ボルトの電圧を印加し、電気泳動によって上記導電性基体上にチタンアルコキシド重縮合体を堆積させ酸化チタン前駆体膜を形成し、その後400°C以上の温度で焼成することにより、膜厚が1μm以上の結晶性酸化チタン膜を形成することを特徴とする結晶性酸化チタン膜の形成方法。

IPC (3件)：

C25D 13/06 , C25D 9/02 , C25D 13/00 307

FI (3件)：

C25D 13/06 Z , C25D 9/02 , C25D 13/00 307 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-246701
光触媒被覆金属板及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-146587 出願人：日新製鋼株式会社
特開平3-150394

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