特許
J-GLOBAL ID：200903056349962293
レジスト現像用ウエハ把持装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-221917
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078745
出願日： 1993年09月07日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【目的】 レジスト現像工程を経たウエハにおいて、現像によって除去されたレジストがウエハ裏面に付着残留することを防止する。【構成】 ヘッド本体20に形成した真空引き用溝26を取り囲んで、ガスブロー溝21を形成する。ガスブロー溝21の外周部分24は、内周部分25よりも低くなっている。ヘッド本体20にウエハを真空吸着して現像,リンス等をするとき、ウエハの裏面に回り込もうとするレジストは、ガスブロー溝21から噴出したブローガスで吹き飛ばされ、清浄な裏面が維持される。【効果】 絶縁体となるレジストがウエハ裏面に付着していないため、高い歩留りで半導体デバイスが製造される。
請求項（抜粋）：
チャックの先端に設けられ、ウエハを真空吸着するヘッド本体と、該ヘッド本体の表面に形成された真空引き用溝と、該真空引き用溝に開口し、前記ヘッド本体を貫通して真空源に連通する貫通孔と、前記真空引き用溝を取り囲んで前記ヘッド本体の外周部分に形成されたガスブロー溝とを備え、該ガスブロー溝を区画する前記ヘッド本体の外周部分が内周部分より低くなっているレジスト現像用ウエハ把持装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01L 21/304 341
, H01L 21/68
