特許
J-GLOBAL ID：200903056357598258
パルスレーザ蒸着法によるセラミックス複合系材料薄膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360581
公開番号（公開出願番号）：特開平5-179430
出願日： 1991年12月28日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：
【要約】【目的】 パルスレーザ蒸着法で、微粒子のない表面平滑で良質なセラミックス複合系材料薄膜を作成する。【構成】 パルスレーザ蒸着法で作成する複合系材料の各構成元素の単体例えば、Y金属1,Ba金属2,Cu金属3を必要な面積比率に配置してホルダーにはめ込んだターゲットTを使用して成膜を行う。金属ターゲットを用いることにより、従来セラミックスターゲットを用いたときの膜中への微粒子の混入が避けられ、表面平滑で良質な薄膜が作成可能となる。更に面積比率を変えることにより容易に組成制御が可能となる。
請求項（抜粋）：
ターゲットにパルスレーザ光を照射し、ターゲット物質を蒸発させて基板にセラミックス複合系材料薄膜を堆積させるパルスレーザ蒸着法によるセラミックス複合系材料薄膜の製造方法であって、ホルダーに複合系材料の各構成元素の単体金属をはめ込んだターゲットを用いることを特徴とするパルスレーザ蒸着法によるセラミックス複合系材料薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
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特開昭64-043917
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特開平2-160609
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特開平2-197565
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