特許
J-GLOBAL ID:200903056373089410

パターン欠陥および異物検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-165272
公開番号(公開出願番号):特開平7-020060
出願日: 1993年07月05日
公開日(公表日): 1995年01月24日
要約:
【要約】【目的】 レチクルやウェハ上の微小な異物や欠陥を高感度で安定して検出する。【構成】 レチクルやウェハ等の被検査物体を撮像して得られる原画像の各画素を、ノイズ除去(ステップ21)、微分処理(ステップ22)した後、各画素での大きさと方向とからなるベクトルデータを求め(ステップ23)、全画素の処置が終了した後(ステップ24)、ステップ23で求めたベクトルデータから異物やパターン欠陥を検出する(ステップ25)。
請求項(抜粋):
被検査物体を撮像して、各画素の情報の集合である二次元画像情報を出力する撮像手段と、前記画像情報を入力し、前記各画素の情報をその周辺の画素情報から大きさと方向を持ったデータに変換する変換手段と、前記データから、被検査物体上の異物や欠陥を正常なパターンから弁別する弁別手段と、を備えたことを特徴とするパターン欠陥及び異物検出装置。
IPC (4件):
G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/70 460 B ,  H01L 21/30 502 V

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