特許

J-GLOBAL ID：200903056401830538

斜方晶リチウム交換低シリカフォージャサイト及びその製造方法並びにその用途

発明者： 吉田 智
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242964
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064013
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】優れた吸着性能を有するゼオライト及びそれを用いたガス吸着剤、それを用いた酸素の製造方法。【解決手段】0°C以上で結晶系が斜方晶で、骨格のSi/Alモル比が実質的に1.0で、交換可能なカチオンの95%〜99%がLi1%〜5%がMg、Zn、鉄、Co、Niから選ばれる2価イオン、もしくはAl、Sc、Ga、鉄、Cr、In、Y、1種のランタニドから選ばれる3価イオンおよびこれらの混合物である低シリカフォージャサイト型ゼオライト、及び、骨格のSi/Alモル比が実質的に1.0の低シリカフォージャサイト型ゼオライトをLiにイオン交換した後、上記2価イオン、又は上記3価イオンおよびこれらの混合物にイオン交換するゼオライトの製造方法、並びに、当該ゼオライトを含む吸着剤に混合ガスを接触させて、混合ガス中の少なくとも1種以上のガスを吸着するガス分離方法。

請求項（抜粋）：

0°C以上で結晶系が斜方晶であり、且つ骨格のSi/Alモル比が実質的に1.0であり、且つ交換可能なカチオンの95%以上99%以下がリチウム、1%以上5%以下がマグネシウム、亜鉛、鉄(II)、コバルト(II)、ニッケル(II)から選ばれる2価イオン、もしくはアルミニウム、スカンジウム、ガリウム、鉄(III)、クロム(III)、インジウム、イットリウム、1種のランタニドから選ばれる3価イオンおよびこれらの混合物であることを特徴とする低シリカフォージャサイト型ゼオライト。

IPC (5件)：

C01B 39/20 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/04 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/30

FI (5件)：

C01B 39/20 ,  B01D 53/02 Z ,  B01D 53/04 B ,  B01J 20/18 D ,  B01J 20/30

Fターム (40件)：

4D012BA02 ,  4D012CA05 ,  4D012CB01 ,  4D012CD07 ,  4D012CE03 ,  4D012CF10 ,  4D012CG01 ,  4D012CG03 ,  4D012CK10 ,  4G066AA61B ,  4G066AA62B ,  4G066BA21 ,  4G066BA31 ,  4G066CA27 ,  4G066DA03 ,  4G066FA11 ,  4G066FA12 ,  4G066FA37 ,  4G066GA14 ,  4G073AA03 ,  4G073BA03 ,  4G073BA10 ,  4G073BA15 ,  4G073BA16 ,  4G073BA17 ,  4G073BA28 ,  4G073BA36 ,  4G073BA40 ,  4G073BA44 ,  4G073BA52 ,  4G073BA57 ,  4G073BA58 ,  4G073BA59 ,  4G073CZ03 ,  4G073CZ41 ,  4G073CZ51 ,  4G073FA12 ,  4G073FD08 ,  4G073UA06 ,  4G073UB39