薄膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-317083
公開番号（公開出願番号）：特開2003-117474
出願日： 2001年10月15日
公開日（公表日）： 2003年04月22日
要約：

【要約】【課題】生産性を向上させながらも、所望の薄膜を形成できる薄膜形成方法を提供すること。【解決手段】フィルム又は板状の被塗布物10の塗布面が下向きの状態で一定速度で搬送しながら、塗布面に向かい合う上向きのスリットノズル3から、毛管作用により塗布液を供給することにより、被塗布物の塗布面に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、スリットノズル3の毛管間隔δが、50μ≦δ≦300μm、スリットノズル3の先端と塗布面との間隔hが、150μm≦h≦300μm、スリットノズル3の出口部における液流速をV1、スリットノズル3へ塗布液を供給するための配管にける液流速をV2とすると、 0<V2≦V1×0.5 となるように設定されている。

請求項（抜粋）：

フィルム又は板状の被塗布物の塗布面が下向きの状態で一定速度で搬送しながら、前記塗布面に向かい合う上向きのスリットノズルから、毛管作用により塗布液を供給することにより、前記被塗布物の前記塗布面に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、前記スリットノズルの毛管間隔δが、50μ≦δ≦300μm前記スリットノズルの先端と前記塗布面との間隔hが、150μm≦h≦300μm前記スリットノズルの出口部における液流速をV1、前記スリットノズルへ塗布液を供給するための配管における液流速をV2とすると、0<V2≦V1× 0.5となるように設定されていることを特徴とする薄膜形成方法。

IPC (3件)：

B05D 1/26 , B05C 5/02 , B05C 11/105

FI (3件)：

B05D 1/26 Z , B05C 5/02 , B05C 11/105

Fターム (34件)：

4D075AC02 , 4D075AC94 , 4D075CA02 , 4D075CA22 , 4D075CA34 , 4D075CA39 , 4D075CB02 , 4D075CB07 , 4D075CB36 , 4D075DA03 , 4D075DA06 , 4D075DB40 , 4D075DB48 , 4D075DC18 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EB22 , 4D075EB33 , 4D075EB37 , 4D075EB38 , 4D075EB52 , 4F041AA02 , 4F041AA12 , 4F041AB01 , 4F041BA10 , 4F041BA32 , 4F041BA57 , 4F041CA02 , 4F041CA12 , 4F042AA02 , 4F042AA22 , 4F042AB00 , 4F042BA04 , 4F042CA01

引用特許：

出願人引用 (4件)

特許第2878171号
塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-162966 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
プレート又はディスクをラッカ塗布又は被覆する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-093563 出願人：ハマテヒハルプライター-マシーネンバウウントテヒノロギーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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審査官引用 (4件)

特許第2878171号
塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-162966 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
プレート又はディスクをラッカ塗布又は被覆する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-093563 出願人：ハマテヒハルプライター-マシーネンバウウントテヒノロギーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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