特許

J-GLOBAL ID：200903056437233137

ポリシランオリゴマーの製造方法

発明者： 福島 基夫 ,  森 滋
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-081227
公開番号（公開出願番号）：特開平6-025261
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：

【要約】【目的】 ポリシランオリゴマーを簡単な操作で、しかも温和な反応条件の下、収率良く合成する。【構成】 下記構造式(1)で示されるジシランを第VIII族遷移金属錯体触媒の存在下に反応させることを特徴とする下記構造式(2)で示される末端にSiH基を有するポリシランオリゴマーの製造方法。【化1】(但し、式中R1〜R4はそれぞれ互に同一又は異種の一価炭化水素基であるが、R1〜R4の少なくとも一つはアリール基である。)【化2】(但し、式中R1〜R4は上記と同様の意味を示し、n,mは1以上の整数で、n+mは3,4,5又は6である。)

請求項（抜粋）：

下記構造式(1)で示されるジシランを第VIII族遷移金属錯体触媒の存在下に反応させることを特徴とする下記構造式(2)で示される末端にSiH基を有するポリシランオリゴマーの製造方法。【化1】(但し、式中R1〜R4はそれぞれ互に同一又は異種の一価炭化水素基であるが、R1〜R4の少なくとも一つはアリール基である。)【化2】(但し、式中R1〜R4は上記と同様の意味を示し、n,mは1以上の整数で、n+mは3,4,5又は6である。)

IPC (2件)：

C07F 7/08 ,  C08G 77/60