特許
J-GLOBAL ID：200903056442589357
電子ビーム描画方法及び描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯村 雅俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-001212
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199786
出願日： 1997年01月08日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】試料描画でのドリフトの時間的変化を小さくして、ドリフト補正間でのビームドリフト変化を小さくすることにより、描画位置精度を向上させる。【解決手段】電子ビーム描画装置では試料描画の開始時にドリフトが大きく、かつドリフト変化の時間が早いために、描画パタンの位置精度が低下していた。そこで、電子ビーム描画装置のステージ上に、描画試料とは別に幅が描画装置の偏向範囲以上、長さが描画領域以上で、かつ描画試料と同じ材質のドリフト吸収部を設置する。そしてこの物体上でビームドリフトの時間あたりの変化が小さくなるまでステージを連続させながら描画動作を行う。そして、ドリフト変化が小さくなった後には、試料の描画を開始する。ドリフト補正用マークを使用する。
請求項（抜粋）：
試料上に電子ビームを偏向させながら照射し、所望のパタンを描画する電子ビーム描画方法において、上記試料とは別の位置に電子ビームを照射して描画動作を行った後、該試料に描画をすることを特徴とする電子ビーム描画方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 D
