特許

J-GLOBAL ID：200903056451708350

高純度Ti錯体及びその製造方法並びにBST膜形成用液体組成物

発明者： 内田 寛人 ,  齋 篤 ,  若林 和夫 ,  小木 勝実
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-194875
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040683
出願日： 1995年07月31日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【課題】 熱分解温度が高く、高純度なTi錯体を提供する。【解決手段】 cis-Ti(O-t-Bu)2 (DPM)2 :Ti(O-t-Bu)4 の有機溶媒溶液にHDPMを加えて加熱還流してcis-Ti(O-t-Bu)2 (DPM)2 結晶を得る。この高純度Ti錯体とBa(DPM)2 及び/又はSr(DPM)2 とを有機溶媒に溶解したBST膜形成用液体組成物。【化4】【効果】 CVD法により、段差被覆性が良好で、高純度で電気特性に優れたTiO膜を成膜できる。溶液供給法により、所望の膜組成のBST膜を成膜できる。

請求項（抜粋）：

下記構造式(I)で表される高純度Ti錯体。【化1】

IPC (2件)：

C07F 7/28 ,  C23C 16/40

FI (2件)：

C07F 7/28 F ,  C23C 16/40