特許

J-GLOBAL ID：200903056465545993

移動装置及びこれに用いる基準スケールの製造方法

発明者： 服部 秀三 ,  西脇 彰
出願人/特許権者： 株式会社ミツトヨ
代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094274
公開番号（公開出願番号）：特開平8-271220
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：

【要約】【目的】 大きなストローク範囲にわたって高精度の直進指示を可能とした移動装置、及びこの移動装置に用いられる直進性指示用基準スケールの製造方法を提供する。【構成】 支持台1にX軸方向に駆動される第1第1移動台2を取付け、この上にY軸方向の微小変位を与えるための圧電アクチュエータ6を介して第2移動台5を取付ける。支持台1には、仮想基準線12に対して描画誤差が対称的に含まれる一対の反射パターン13a,13bを形成した基準スケール10を設ける。移動台6に取り付けたアーム21a,21bの先端には基準スケール10のパターンを読み取るための干渉縞投光器22と、光検出器23a,23bを設け、検出器23a,23bの差出力により圧電アクチュエータ6を帰還制御する干渉測長回路31及びy-yaw回路32を設ける。

請求項（抜粋）：

支持台と、この支持台に取り付けられて支持台の面内の第1軸方向に直進駆動される第1移動台と、この第1移動台に前記支持台面の第1軸と直交する第2軸方向に微小変位を与えるためのアクチュエータを介して取り付けられた第2移動台と、前記支持台上に第1軸方向の所定範囲にわたって前記第1移動台の第1軸方向の移動の直進性を指示するための基準となる光反射パターンが形成された基準スケールと、前記第2移動台にそれぞれ取り付けられた、前記基準スケールの光反射パターン読み取り用の光ビームを照射する光照射手段及び前記基準スケールからの反射光を検出する光検出手段と、この光検出手段の出力を処理して前記第1移動台の直進誤差を補償するように前記アクチュエータを駆動する帰還制御手段とを有することを特徴とする移動装置。