特許
J-GLOBAL ID：200903056466093247
電子ビーム露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
龍華 明裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-306980
公開番号（公開出願番号）：特開2002-190447
出願日： 2001年10月02日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：
【要約】【課題】 露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。【解決手段】電子ビームを用いて、ウェハに露光処理を行う電子ビーム露光装置であって、前記電子ビームの断面形状を、第1の辺及び前記第1の辺に対して実質的に垂直な第2の辺を含む矩形断面に成形する電子ビーム成形手段120と、前記第1の辺の長さに基づいて、前記第2の辺の長さ及び前記電子ビームの照射時間の少なくとも一方を定める制御系140とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置100。
請求項（抜粋）：
電子ビームを用いて、ウェハに露光処理を行う電子ビーム露光装置であって、前記電子ビームの断面形状を、第1の辺及び前記第1の辺に対して実質的に垂直な第2の辺を含む矩形断面に成形する成形手段と、前記第1の辺の長さに基づいて、前記第2の辺の長さ及び前記電子ビームの照射時間の少なくとも一方を定める制御手段とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/04
, H01J 37/305
G03F 7/20 504
, H01J 37/04 A
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 Q
, H01L 21/30 541 M
2H097CA16
, 2H097GB00
, 2H097LA10
, 5C030AA04
, 5C030AB03
, 5C034BB03
, 5C034BB04
, 5F056AA04
, 5F056CA05
, 5F056CB03
, 5F056CB08
, 5F056CB11
