特許
J-GLOBAL ID:200903056467558073

オレフィンからのエポキシドの連続的製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-588155
公開番号(公開出願番号):特表2002-532483
出願日: 1999年12月01日
公開日(公表日): 2002年10月02日
要約:
【要約】本発明はエポキシ化オレフィンの連続的製造法に関する。第1工程においては、元素状の水素と酸素から触媒反応によって過酸化水素の希薄溶液を調製し、該溶液を珪酸チタンの存在下における液相エポキシ化によってオレフィンと反応させることによってエポキシ化オレフィンを調製し、溶剤はH2O2の製造工程へ戻す。
請求項(抜粋):
以下の工程(a)〜(f)を含む、一般式xTiO2・(1-x)SiO2(式中、xは0.0001〜0.04の数を示す)で表される合成チタン原子含有ゼオライトの存在下においてオレフィンおよび過酸化水素のアルコール希薄溶液もしくは水性アルコール希薄溶液からエポキシ化オレフィンを製造する方法: (a)活性成分として主として8亜族の元素を含有する触媒を用いる水素と酸素の連続反応によって過酸化水素のアルコール希薄溶液もしくは水性アルコール希薄溶液を調製し(該希薄溶液は所望により安定剤を含有していてもよい)、 (b)所望により安定剤を不活性化させ、 (c)過酸化水素のアルコール希薄溶液もしくは水性アルコール希薄溶液とオレフィンを反応させ、 (d)エポキシ化オレフィンを分離させ、 (e)所望により過酸化水素のアルコール希薄溶液もしくは水性アルコール希薄溶液から安定剤を除去し、次いで (f)過酸化水素のアルコール希薄溶液もしくは水性アルコール希薄溶液を工程(a)へ戻す(この場合、該過酸化水素のアルコール希薄溶液もしくは水性アルコール希薄溶液は上記の個々の工程間においては単離させない)。
IPC (3件):
C07D301/12 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300
FI (3件):
C07D301/12 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300
Fターム (7件):
4C048AA01 ,  4C048BB02 ,  4C048UU02 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40

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