特許
J-GLOBAL ID：200903056468035325
大気圧プラズマ表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 武夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-230768
公開番号（公開出願番号）：特開平7-062546
出願日： 1993年08月25日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：
【要約】【目的】 大気圧プラズマ表面処理装置において、処理を終わった後吹き出す反応ガスの残部や副生成物が周囲に拡散するのを防止するか、あるいは少なくとも拡散量を減少させることの可能な吹出し形のプラズマ表面処理装置を提供する。【構成】 電極2a,2bを有する誘電体の反応容器1の外周に、吹出しガスを吸引する空間を形成する箱体10を設け、さらにその外周に別の空間を形成する外箱体11を設けて不活性ガスを導入し大気反応容器内に巻き込まれない構成である。また別の実施例としての装置は、被処理物が繊維状の場合は被処理物に対し反応容器の反対側に、吹き出した処理済みのガスや外箱体からの不活性ガスの吐き出し口よりやや大きい開口を有する受け箱体を設けた構成である。
請求項（抜粋）：
大気圧下に対向して配置される1対の電極間の空隙の一方端から反応ガスとしてのフッ化炭素系あるいは炭化水素系物質などのガスと、ヘリウム、アルゴン、ネオンなどの希ガスまたはN2 等の不活性ガスとの混合ガスが導入され、前記電極間の他方端に静止、または移動可能に置かれる被処理物体の表面に吹き付けられて高周波、高電圧下でのグロ-放電によりプラズマ化された前記混合ガスにより、前記被処理物体の表面を改質あるいは表面に例えばアモルファス炭素膜を析出形成させる大気圧プラズマ表面処理装置において、前記表面処理装置は、所定の間隔を保って対向して平行に配置された側壁と、その外表面上に前記1対の電極のそれぞれが配置され被処理物体の表面との間に所定距離の隙間を保って配置された1対の側壁と、前記両側壁の前後両端部間を連結する周壁と、これらの側壁と周壁の上面を覆う上壁とを有し、前記上壁の中央部に前記混合ガスの導入口が明けられ、前記側壁の下端と前記被処理物体との間の隙間が処理済みガスの吐き出し口を形成する箱状または筒状の誘電体製反応容器と、この反応容器を囲んでさらに外周に配置されて前記両電極の表面との間に所定の空間を形成する1対の側壁と、前記両側壁の前後両端部間を連結する周壁と、これらの両側壁と周壁の上面を覆う上壁とを有し、この上壁上で前記反応容器の混合ガスの導入口に対しほぼ対称の位置に明けられた1対の処理済みガスの吐き出し口を有し、前記側壁の下端は前記被処理物体に対し前記反応容器の下端に対し所定の距離を保って配置される誘電体製箱体と、を有し、前記反応容器の下端から吐き出された処理済みガスが前記箱体の側壁と前記反応容器の側壁との間の空間を上方に流れて前記の吐き出し口を通過し回収されるようになっていることを特徴とする大気圧プラズマ表面処理装置。
IPC (3件)：
C23C 16/50
, C23C 16/26
, H01L 21/205
