特許

J-GLOBAL ID：200903056479201740

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 吉本 洋
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-131209
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319594
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】 特に150nm〜230nmという波長領域の光に対して十分好適な高感度・高解像性を有し、レジストパターンプロファイルが優れ、かつ耐ドライエッチング性が優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 珪素原子と炭素原子のモル比率(Si/C)が、0.2以上であるアルカリ可溶性シロキサンポリマー、及びキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする150〜230nmの波長の遠紫外線露光用ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

珪素原子と炭素原子のモル比率(Si/C)が、0.2以上であるアルカリ可溶性シロキサンポリマー、及びキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする150〜230nmの波長の遠紫外線露光用ポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R