特許
J-GLOBAL ID:200903056480110200

多分岐高分子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 白井 重隆 (外1名) ,  白井 重隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-064815
公開番号(公開出願番号):特開2000-256459
出願日: 1999年03月11日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 屈曲性の高いメチレン基を有し、比較的分子サイズが大きいAB2 型モノマーを用いることで、立体障害による反応性の低下を回避し、高分子量体が合成可能で、かつ保護基を持たないAB2 型モノマーを用いることで、一段階ごとの単離精製の工程を必要としないため、少ない工程で容易に大量に製造可能で、かつ分岐構造の規則性が高く、比較的分子量分布のそろった多分岐高分子を得る。【解決手段】 下記一般式(1)で表わされる基本繰り返し単位からなり、かつ数平均分子量が500以上の多分岐高分子。【化1】(式中、nは1〜20の整数を示す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表わされる基本繰り返し単位からなり、かつ数平均分子量が500以上の多分岐高分子。【化1】(式中、nは1〜20の整数を示す。)
IPC (2件):
C08G 69/08 ,  C07C237/20
FI (2件):
C08G 69/08 ,  C07C237/20
Fターム (27件):
4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006BS30 ,  4H006BU46 ,  4H006BV25 ,  4J001DA01 ,  4J001DB01 ,  4J001DB06 ,  4J001DC03 ,  4J001DC14 ,  4J001DC16 ,  4J001DD01 ,  4J001DD03 ,  4J001DD05 ,  4J001DD07 ,  4J001DD13 ,  4J001EA29 ,  4J001FA03 ,  4J001GA12 ,  4J001GA13 ,  4J001GB14 ,  4J001JA07 ,  4J001JA20 ,  4J001JB01 ,  4J001JB03 ,  4J001JB11
引用文献:
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