特許
J-GLOBAL ID:200903056480110200
多分岐高分子およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
白井 重隆 (外1名)
, 白井 重隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-064815
公開番号(公開出願番号):特開2000-256459
出願日: 1999年03月11日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 屈曲性の高いメチレン基を有し、比較的分子サイズが大きいAB2 型モノマーを用いることで、立体障害による反応性の低下を回避し、高分子量体が合成可能で、かつ保護基を持たないAB2 型モノマーを用いることで、一段階ごとの単離精製の工程を必要としないため、少ない工程で容易に大量に製造可能で、かつ分岐構造の規則性が高く、比較的分子量分布のそろった多分岐高分子を得る。【解決手段】 下記一般式(1)で表わされる基本繰り返し単位からなり、かつ数平均分子量が500以上の多分岐高分子。【化1】(式中、nは1〜20の整数を示す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表わされる基本繰り返し単位からなり、かつ数平均分子量が500以上の多分岐高分子。【化1】(式中、nは1〜20の整数を示す。)
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (27件):
4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB46
, 4H006BS30
, 4H006BU46
, 4H006BV25
, 4J001DA01
, 4J001DB01
, 4J001DB06
, 4J001DC03
, 4J001DC14
, 4J001DC16
, 4J001DD01
, 4J001DD03
, 4J001DD05
, 4J001DD07
, 4J001DD13
, 4J001EA29
, 4J001FA03
, 4J001GA12
, 4J001GA13
, 4J001GB14
, 4J001JA07
, 4J001JA20
, 4J001JB01
, 4J001JB03
, 4J001JB11
引用文献:
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