特許
J-GLOBAL ID：200903056482247033
二次元流発生装置及び流れ分配装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-030639
公開番号（公開出願番号）：特開2005-219171
出願日： 2004年02月06日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】サンドブラスト加工法のノズルにおいて、スリット状の流出口から流出される粒流体内の粒体を流出口の長手方向において均一にすることができる二次元流発生装置を提供する。【解決手段】二次元流発生装置は、粒流体が粒流体供給部34内へ供給されることで、粒流体が環状流路22を流れると共に展開流路30によって徐々にスリット状の流れに展開されて、スリット状の流出口32から粒流体の二次元流が流出される。ここで、環状流路22を環状流に形成された粒流体が流れるため、環状流路22では粒流体内の粒体が周方向に略均一な分布になって、展開流路30では粒流体内の粒体が流出口32の長手方向において略均一な分布になる。このため、流出口32から流出される粒流体内の粒体を流出口32の長手方向において均一にすることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
環状流を生成する環状流路と、
流入側が前記環状流路の流出側に連通され、かつ流出口がスリット状の展開流路であって、流入側から流出側に向かって前記環状流路の流出側に連通された部分の形状が徐々にスリット状に展開された展開流路と、
を備えた二次元流発生装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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