光源装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334886
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153742
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】光源装置が高温になっても変形しにくいベースを有し、高精度なビームピッチを維持できる光源装置を提供する。【解決手段】複数の半導体レーザ2,2と、これらの半導体レーザを固定するベース1と、各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズ3,3と、これらのコリメータレンズから出射されるレーザビームを近接したビームにするビーム合成用光学素子5と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに固定されるケース33とを有する光源装置において、上記ケースに1以上のスリット33aを形成し、ケースの曲げ剛性を低下させた。ケースが熱膨張して変形しても、ケースの剛性が低いので、ベースを変形させない。

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザと、これらの半導体レーザを固定するベースと、各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズと、これらのコリメータレンズから出射されるレーザビームを近接したビームにするビーム合成用光学素子と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに固定されるケースとを有する光源装置において、上記ケースに1つ以上のスリットを形成しケースの曲げ剛性を小さくしたことを特徴とする光源装置。

IPC (3件)：

G02B 7/02 , B41J 2/44 , G02B 7/18

FI (3件)：

G02B 7/02 F , B41J 3/00 D , G02B 7/18 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

半導体レーザ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-048515 出願人：株式会社リコー
光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-262680 出願人：セイコーエプソン株式会社
特開昭61-165711

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