特許

J-GLOBAL ID：200903056485656970

露光用マスクとその製造方法

発明者： 高岡 和千代 ,  兵頭 建二
出願人/特許権者： 三菱製紙株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171489
公開番号（公開出願番号）：特開2000-010257
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】本発明の課題は、簡便に露光用マスクを作製することのできる露光用マスクとその製造方法を提供することにある。【解決手段】透明基板上に遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、該遮光膜が、少なくとも金属膜と、ハロゲン化銀が溶解され、現像時に物理現像核によって受像して得られる銀膜との積層構造であることを特徴とする露光用マスクとその製造方法。また、透明基板と金属膜の間に金属酸化物層或いは有機金属化合物層を有し、物理現像核が金属酸化物、或いは有機金属化合物によって保持されていることを特徴とする露光用マスク。

請求項（抜粋）：

透明基板上に遮光膜を設けてなる、回路パターンを形成するための露光用マスクにおいて、該遮光膜が、少なくとも金属膜と、ハロゲン化銀が溶解され、現像時に物理現像核によって受像して得られる銀膜との積層構造であることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  G03C 8/06

FI (2件)：

G03F 1/08 K ,  G03C 8/06

Fターム (4件)：

2H095BA11 ,  2H095BC08 ,  2H095BC11 ,  2H095BC24