特許

J-GLOBAL ID：200903056493596544

耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法

発明者： 山岡 亜夫 ,  藤井 弘文 ,  表 利彦 ,  林 俊一
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-310147
公開番号（公開出願番号）：特開平6-161110
出願日： 1992年11月19日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】【目的】 感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。【構成】 ポリイミド前駆体に特定のビニルエーテル化合物、および活性光線の照射によって酸性を呈する光分解性プロトン発生剤を含有させることによって、未露光部分のポリイミド前駆体のカルボキシル基を保護してアルカリ溶解性を低下させる。露光部分は脱保護化してアルカリ現像液に対して再溶解性となり、良好な溶解性コントラストが得られる。

請求項（抜粋）：

下記(化1)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体と、【化1】下記(化2)または(化3)にて示されるビニルエーテル化合物と、【化2】【化3】活性光線の照射によって酸性を呈する化合物、とを含有してなる耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027